![国内试镜 扫毒[高清]](/uploads/allimg/241108/080S931010P24.jpg "国内试镜 扫毒[高清]")
愈演愈烈的国际贸易冲突，将一些底本普罗专家既不熟悉，又很罕有到的空姐 偷拍，位于产业中上游的先进时间与工艺推到了风口浪尖。
比如光刻、光刻机，以及本文的主角光刻胶。
但这些如今多数以“卡脖子”态状的先进领域，时常只是名字世界知，细节无东谈主问 —— 它们究竟是什么？高下流是若何的？商场有多大？为什么会被卡脖子？为什么曩昔没东谈主花大钱，下鼎力气开发？
本文将聚焦这两年因芯片而惹人注目的光刻胶，为读者解析这一产业的基本情况，以及咫尺国产化替代所濒临的主要费劲。
光刻胶，又称“光致抗蚀剂”，是光刻成像的承载介质，可哄骗光化学反应将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息振荡为化学能量，从而把狭窄图形从掩模版更动到待加工基片上。其被凡俗应用于光电信息产业的狭窄图形澄莹的加工制作，是狭窄加工时间的要道性材料。
要而论之，光刻胶是光刻工艺最迫切的耗材，其性能决定了加工成品的精密程度和良品率，而光刻工艺又是精密电子元器件制造的要道过程，这使得光刻胶在通盘电子元器件加工产业，都有着至关迫切的地位。
需要强调，尽管连年来光刻胶与芯片一谈反复为媒体所说起，但它从来不是只用于半导体坐蓐，致使在三个主流应用领域（半导体、PCB、LCD）里，半导体光刻胶的商场范围也最小。受篇幅所限，本文将聚焦于受关注度最高，亦然典型的“卡脖子”领域 —— 半导体光刻胶，其它用途将仅作低能先容，概略备张开。
从举座产业链看，光刻胶上游为种种专用化学成品，属于精良化工行业；下流则为种种电子元器件制造行业。
从坐蓐原材料看，光刻胶的上游为种种专用化学品，属于精良化工产业，包括光引发剂（光增感剂、光致产酸剂）、溶剂、成膜树脂及添加剂（助剂、单体等）。
从用量上来说，溶剂（主要为丙二醇甲醚醋酸酯，简称 PMA）是用量最大的材料，含量最高可达 90%，但在成本上并不杰出，且不起要道作用；四肢光化学反应的中枢部分，光引发剂的用量仅有约 1%~6%；树脂则在不同光刻胶居品中的用量区别很大 [2]。
从成本看，在半导体光刻胶领域，越先进的工艺，树脂成本占比越高：以 KrF（氟化氪）光刻胶为例，树脂成本占比高达约 75%，感光剂约为 23%，溶剂约为 2%[3]。
光刻胶的分类方式种种化，总体来说顺从三大分类方式：
按化学反应旨趣和显影旨趣不同，可分为正性光刻胶与负性光刻胶；
按原材料化学结构不同，可分为光团员型、光分解型、光交联型和化学方大型；
按下流应用领域不同，可分为 PCB 光刻胶，面板（LCD）光刻胶、半导体光刻胶以偏执它光刻胶。
正性光刻胶与负性光刻胶这一分类主要依据的是光照后显影时与显影液产生的化学反应，最终形成的图形与掩模疆土形的对应关联。
正性光刻胶的曝光部分溶于显影剂，在蚀刻过程中光照到的区域会被等离子化气体蚀刻去除，最终留住的图样是曝光工序中光泽所莫得照到的区域，与掩膜版上的图形疏通。
负性光刻胶与正性光刻胶违反，其曝光部分不熔化于显影剂，未被光照的区域会被去除，显影时形成的图形与掩膜版违反。
正胶与负胶两者的坐蓐工艺过程基本一致，但性能上存在各异。从发展看，负胶最早应用于光刻工艺中，且有更耐腐蚀的优点。然而由于显影时易变形和扩张，导致负胶在最为要道的辞别率方面性能欠安，不成用于先进制程的坐蓐 [4]。
该分类方法依据的是原材料中，感光树脂的化学结构。其中的光团员型和光分解性主要应用于正性光刻胶，而光交联型则是典型的负性光刻胶。化学放大型则是咫尺最为先进的类型，凡俗的应用于先进制程 [4]。
这一分类依照的是光刻胶的应用领域，同期亦然知名度最高的一种步调。
三种主要光刻胶中，PCB（印刷电路板，Printed circuit board）光刻胶最为低端，同期亦然国产化率最高的领域，占 PCB 制形成本的 3%~5%。可分为干膜光刻胶、湿膜光刻胶与光成像阻焊油墨 [2]。
凭借我国在劳能源和资源等方面的上风，21 世纪以来，PCB 产业开动向国内更动，国内厂商掌合手了坐蓐 PCB 上游要道材料的中枢时间，在产能与成本上均有很强竞争力。数据领悟，2019 年全球 PCB 产值约 637 亿好意思元，我国 PCB 商场范围达到 329.4 亿好意思元，占全球商场的份额超越 50%，是最大的 PCB 坐蓐国 [2]。
光刻工艺亦然液晶面板制造的中枢工艺，因此 LCD 光刻胶，也即是面板（Liquid Crystal Display）光刻胶一样是产业中枢耗材。彩色滤光片是液晶领悟器竣事彩色领悟的要道器件，占面板成本的 14%~16%，其坐蓐成本径直影响到液晶领悟器居品的售价和竞争力；彩色光刻胶和玄色光刻胶是制备彩色滤光片的中枢材料，在彩色滤光片材料成本中，彩色光刻胶和玄色光刻胶在举座成本中占比约 27%[5]。
然而与半导体光刻胶访佛，我国在面板光刻胶领域的国产化率一样不高，产能主要聚拢在相对低端的触摸屏光刻胶领域。附加值更高的彩色及玄色光刻胶，咫尺的商场被日韩厂商把持。以需求最多的彩色光刻胶为例，东京应化、LG 化学、东瀛油墨、住友化学、三菱化学、奇好意思等日本、韩国和中国台湾企业占据了 90% 以上的商场份额，我国自主供应才调一样不彊 [2]。
在半导体领域，光刻工艺是最为中枢、最为迫切的加工法子，其成本约为通盘芯片制造工艺的 30%，耗时约占通盘芯片工艺的 40%~50%。而四肢这一工艺的中枢介质，半导体光刻胶的质料和性能是影响芯片性能、成品率及可靠性的要道要素，对举座光刻工艺有着至关迫切的影响。
半导体光刻胶跟着商场对半导体居品微型化、功能种种化的条目，而收敛通过镌汰曝光波长提升极限辞别率，从而适配收敛发展的光刻工艺。
凭据曝光波长不同，半导体光刻胶可进一步分为普通宽普光刻胶、g 线（436nm）、i 线（365nm）、KrF（248nm）、ArF（193nm）、以及首先进的 EUV (<13.5nm) 光刻胶。
其中，ArF 光刻机触及干法和浸没式两种工艺（区别在于镜头和光刻胶之间的介质是空气照旧液体），ArF 光刻胶也对应分为干法和浸没式两类。EUV 光刻胶则是制造难度最高的居品，亦然 7nm 及以下制程芯片加工过程中的中枢原材料。
可能有的读者也会见到 DUV，即深紫外线（Deep Ultraviolet Lithography）这一称呼，它指的是 160~280nm 的曝光波长，涵盖 EUV 前的一整代时间，咫尺在光刻工艺上指的即是 KrF 和 ArF。
除了上述步调外，还有一种被称作 F2，曝光波长为 157nm 的时间规格，但却惨遭淘汰，未能竣事工业坐蓐。主淌若因这一规格在发展过程中被 ArF 正面击溃，背后触及的是半导体行业最为紧要的一次道路不对，其驱逐塑造了咱们如今看到的半导体加工业步骤。
其时以尼康、佳能为首的光刻机制造商试图主推 157nm 光源的 F2 规格，可提升 20% 傍边的辞别率，但该道路有两个致命劣势 [4]：
镜组使用的光学材料在 157nm 时均为高摄取态，摄取激光发射后升温扩张，产生形变形成球面像差。因此必须使用 CaF2 制造镜组。然而 CaF2 镜组使用寿命短，且中枢时间在尼康手中，产能较低，无法骄傲大范围应用的条目。
由于 ArF 的使用的光刻胶在 157nm 均有强摄取，光刻胶需要再行进行开发，参预产出比不高。
与此同期，台积电工程师林本坚提议了基于 ArF 光源的浸没式决策，行将镜头和光刻胶之间的介质由空气改成液体。借由这一决策，台积电得以将 ArF193nm 的曝光波长经过折射后，等效波长可竣事 134nm，通过转换现存时间在辞别率上反超了 F2 道路。同期由于这一决策是转换升级现存开辟，在性价比喻面有着碾压性的上风。更恶运的是，F2 无法透水，这导致其不成兼容浸没式时间 [6]。
第一时辰反应台积电提议的恰是阿斯麦（ASML），后者在 2003 年推出了第一台浸没式光刻机样机，凯旋霸占先机。而当尼康在 2006 年推出浸没式光刻机时，屎滚尿流。最终，阿斯麦在 2006 年超越尼康成为光刻机龙头空姐 偷拍，详情了其在深紫外线期间的总揽地位。
除了上述三大类光刻胶外，还有 CCD 录像头彩色滤光片的彩色光刻胶、MEMS 光刻胶、触摸屏透明光刻胶、生物芯片光刻胶、薄膜磁头光刻胶等愈加种种化的类型。
需要看守的是，尽管光刻胶在电子元器件加工行业是中枢材料，但举座商场范围并不大。
公开数据领悟，2019 年全球光刻胶商场范围瞻望约 91 亿好意思元，自 2010 年至 2019 年年复合增长率约为 5.4%，推算 2021 年数据为百亿傍边；同期中邦原土光刻胶商场范围约在 88 亿东谈主民币傍边 [5]。
从细分商场看，在全球光刻胶商场，LCD、PCB、半导体光刻胶各自占有 27%、25% 和 24% 的份额，商场散播比较平均。其中，半导体光刻胶固然占比最低，却是成长性最佳以实时间难度最高的细分商场。
举座业态方面，全球光刻胶商场高度聚拢，日好意思把控着绝大部分商场份额。日本的 JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球 70% 以上的商场份额，举座把持地位雄厚 [5]。
具体到半导体领域，半导体光刻胶的特征与举座光刻胶行业的区别不大：商场范围小，聚拢度极高，日好意思企业把持供应。
数据领悟，2020 年全球的半导体光刻胶商场范围约为 17.5 亿好意思元，固然地位至关迫切，在半导体整条产业链中的占比也相等之低 [7]。同期全球半导体商场范围 4260 亿好意思元，计较下来，半导体光刻胶商场在行业举座中的占比仅有 0.4%[8]。
细分商场方面，ArFi 光刻胶（即浸没式 ArF 光刻胶）和 KrF 光刻胶的商场份额最大，均在 30% 以上，其次是 g / i 光刻胶，商场份额约为 17%，EUV 偏执它类型半导体光刻胶整个仅有 1% 傍边。但从改日发展看，四肢代表着先进集成电路发展趋势的 EUV 光刻的要道耗材，EUV 光刻胶对将芯片制程股东至 5nm 以下起要道作用，成长性无疑是最佳的 [7]。
在全球半导体光刻胶商场中，日本企业稳居把持地位。2020 年，日本企业在全球半导体光刻胶商场中占据的份额至少在 60% 以上，其中东京应化以 25.6% 的商场份额占据龙头地位；好意思国杜邦位列第二，商场份额为 17.6%[9]。
从细分商场看，2020 年，日本东京应化在 g / i 线、KrF 和 EUV 光刻胶商场的份额位列全球第一；JSR 则以 24.9% 的商场份额主持着 ArF 光刻胶商场。
半导体光刻胶从全局到细分，商场聚拢度均相等之高：举座商场 CR4（Concentration Ratio，行业聚拢度）近 70%；ArF、KrF 商场中，CR4 均在 74% 以上；EUV 商场则更为夸张，东京应化、信越化学和 JSR 三家日本公司的 CR3 高达 99.9%，一经竣事透顶把持 [9]。
聚焦原土商场，现时国内半导体光刻胶商场范围一样有限，但举座增速比较快。据好意思国半导体协会的数据领悟，中国半导体光刻胶商场从 2015 年的 1.3 亿好意思元增长至 2019 年的 2.5 亿好意思元，并在 2020 年快速跃升至 3.5 亿好意思元，同比增长约为 40%[10]。
我国半导体光刻胶的商场结构，2020 年，ArF 光刻胶占比 40%；KrF 光刻胶占比 39%；g / i 线光刻胶占比 20%；EUV 光刻胶则莫得统计层面可见的数据 [10]。
不外照旧那句话，商场小不代表不迫切。四肢精密电子元器件制造最要道，致使莫得之一的耗材，发展光刻胶的必要性无论若何强调都不外分。然则强调归强调，真到落地的时候，行业仍然濒临着苍劲费劲。
固然咱们反复强调光刻胶在半导体制产业中的迫切地位，但现时的国产替代程度，真是不何如样。
从原土光刻胶的举座产业结构看，相对低端的 PCB 光刻胶仍然占国内 94% 傍边的供应，而高端的面板光刻胶与半导体光刻胶相等之少 [11]。
具体到半导体，咫尺适用于 6 英寸硅片的 g 线、i 线光刻胶的自给率约为 10%，适用于 8 英寸硅片的 KrF 光刻胶自给率不及 5%，而适用于 12 寸硅片的 ArF 光刻胶基本依赖入口，更先进的 EUV 则连研发都处于特殊早期的阶段 [12]。产能上，国内企业的居品，仅 g / i 线光刻胶竣事批量应用，KrF 仅少数研发程度率先企业竣事小批量应用，即使最乐不雅揣度，国产光刻胶行业与国际先进水也有两代的差距。
现时国产光刻胶企业，程度比较可以的有被彤程新材（sh603650）收购的北京科华（KrF 量产，EUV 在研），干法 ArF 胶已有小批量订单的南大光电（sz300346），以及领有可用于干法、浸没式 ArF 光刻机，可同期研发两种光刻胶，有望在 2022 年竣事极少销售的上海新阳（sz300236）。这三家企业举座的研发程度相对靠前，研发开辟比较皆全，且有正在成立中的产能。
之是以会如斯，是因为无论从时间门槛，照旧交易层面，通盘光刻胶领域濒临艰深挑战，温顺综合即是四个字：事多钱少。
全色网复杂且全主见的时间窘境摆在光刻胶眼前第一谈绕不外去的坎，即是居品的配套测试需要光刻机。可这正好亦然中国咫尺遭到牺牲的领域之一，况兼比光刻胶还要严格。无论是国内企业照旧阿斯麦（AMSL，荷兰公司，好意思资控股）方面都作念了不小的悉力，试图寻求一种方法绕过好意思国的禁闭，但于今顺利甚微。
在光刻胶的研发阶段，企业需要哄骗光刻机来考证居品以及配套化学试剂性能，是自主曝光检测必不可少的开辟；在量产过程中，产线也需要通过光刻机四肢检测开辟，竣事巩固的品控。
四个字综合：莫得不行。
这形成了一个相等难熬的场地：行业现时致使穷乏考证居品究竟好不好用的才调。在这种顶端领域内搞“盲东谈主摸象式”的研发也不践诺，指望一家企业莫得 EUV 光刻机就研发出可量产的 EUV 光刻胶，就怕难度也不会比山公敲出莎士比亚全集低许多。
是以，光刻胶想要突破，必须有来自光刻机方面的研发突破四肢支柱。
另一方面，国内也不单是无法坐蓐光刻胶，举座产业链都比较薄弱，供应链整合才调不彊。树脂、单体等上游中枢原材料的国产化率也并不高，现存工艺与国际先进水平有不小的差距，四肢光刻胶中枢原材料的专用化学品自己一样依赖入口。
与举座光刻胶行业自己访佛，光刻胶的上游原材料端聚拢度一样很高，计划时间历久被少数几家企业掌控。国内企业只在 PCB 光刻胶上游有一定竞争力，但在面板和半导体光刻胶上游，供应商仍然多数受困于时间积攒不及、产能低、参预水平不高、打不开商场等问题。
以电子级酚醛树脂为例，由于量产的需求，在坐蓐树脂中需要保证不同批次的高分子树脂的分子量散播和性能基本一致，导致成膜树脂的合成难度惊东谈主，主导地位由日韩化工企业主持。而最常用的光刻胶溶剂，丙二醇甲醚醋酸酯（PMA / PGMEA）坐蓐主要聚拢在好意思国、西欧等国度和地区，主要厂家是好意思国陶氏化学、伊士曼化学，荷兰利安德巴塞尔，德国巴斯夫等企业，时间研发史多数超越 30 年，率先上风极为权臣。
但这并非上游企业“不念念逾越”。由于国内光刻胶行业自己的发展比较逐渐，下流需求不彊，上游供应商穷乏必要的研发能源，也莫得旨趣在一个高度聚拢，竞对领有数十年上风积攒的行业强行开展商场竞争，这至少在交易上是极不经济的。咫尺想要处理上游原材料供应难，也需依赖光刻胶行业自己的快速发展带来的商场增量，为上游提供富裕的利益驱动企业加大研发参预。
客户高度特化的需求，一样是个问题。在时间发展以及加快升级的驱动下，现时光刻胶下流的末端应用居品，阐发出了趋向定制化和种种化的特征：下流不同客户的需求各异显着，即使并吞客户的不同应用需求也不一致。
这就导致光刻胶的举座坐蓐穷乏和洽的工艺，每一类光刻胶使用的原料在化学结构、性能上均有所区别，条目使用不同品性等第的专用化学品。这就迫使制造商需要有才调设想出适合不同需求设想不同配方，并有相应的坐蓐工艺完成坐蓐。这属于行业的中枢时间之一，对企业的时间才调条目比较高，咫尺原土企业还比较欠缺。
专利方面则是光刻胶行业的天堑。由于起步较早，日好意思企业在光刻胶领域的专利积攒上风苍劲。在产业化时间才调上，国际光刻胶企业针对中枢居品成立了较全面的专利体系和地区掩饰。
凭据智谋芽专利数据平台给出数据领悟，咫尺，全球光刻胶第一大时间来源国为日本，专利恳求量占全球光刻胶专利总恳求量的 46%；好意思国则以 25% 的恳求量位列第二。中国则以 7% 的恳求量排在韩国之后。从趋势上看，中国的光刻胶计划专利恳求量正在快速增长，在 2020 年竣事了对日本的反超。2020 年，中国光刻胶专利恳求量为 1.29 万项，日本光刻胶专利恳求量下落至 8982 项 [13]。
然而受起步滞后影响，国内的光刻胶专利聚拢在熟习的工艺领域，中枢专利仍然薄弱。以 EUV 光刻胶为例，国内仅有中科院化学所与北理工学术机构身份上榜。改日如何突破外洋企业全面的专利壁垒，也会是个艰巨。
若说仅随机间面的费劲还则结束，偏巧光刻胶的交易化难度也很高。
开头是前期参预惊东谈主。以晶瑞电材（sz300655）的“集成电路制造用高端光刻胶（ArF 光刻胶）研发技俩”为例，该技俩拟参预仅 4.9 亿元，其中 ArF 光刻机的投资金额高达 1.5 亿元，占开辟及装配费一项的 44%，总投资的 31%—— 只是一台光刻机的价钱，就接近晶瑞电材 2020 年度归母净利润（0.8 亿元）的两倍 [12]。
况兼这还仅是 ArF 光刻机，首先进的 EUV 光刻机更为夸张，现时报价一经超 1.2 亿好意思元。不外接头到好意思方现阶段绝无松口的可能性，属于有钱也买不到、不让买的特地物。
前期的高额参预只不外是垫脚石，光刻胶还要面对漫长的客户考证周期。
由于光刻胶的功能性和质料对下流电子元器件的居品性量有着极为径直的影响，重叠行业的高度精密特征，任何质料问题都有可能给下流企业形成极其严重的耗损。举例在 2019 年，台积电就曾因光阻原料期凌导致上万片 12 英寸晶圆报废，径直耗损达 5.5 亿好意思元 [14]—— 这哪怕关于台积电都不是个跟浮光掠影的数字，而以国内企业现阶段的体量来说，金额足以让负有抵偿株连的企业倒闭数次。
是以下旅客户，对光刻胶此类专用化学品的采购相等严慎，潜在供应商必须领受充分调研，其居品也需要经过充足考证，这就带来了漫长的认证过程。
数据领悟，哪怕是面板光刻胶这样相对低端的居品，考证周期时常也要有 1~2 年，而要道的半导体光刻胶更是需要 2~3 年，这也带来了下流企业更换供应商的动机很弱，高下流深度绑定的景象 [15]。同期由于光刻胶自身高度种种化的居品特征，不同客户的测试条目与考证过程也不一致，带来了更为复杂的概略情味。
如斯一来，通盘行业的交易化出息就很不乐不雅，投资门槛太高、前期投资回收周期过长，关于追求薪金率的社会老本而言不够友好。
更何况，四肢高精尖行业，长久都要濒临一个最基本的风险，即是研发失败。如光刻胶般的顶端居品的研发使命不是种地，况兼哪怕种地也要濒临极点天断气收的可能，大笔资金参预有去无回，技俩未能获取预期效果都是再平素不外的事，这一丝在以往的时间类著述中，果壳硬科技曾经屡次说起。
这就对企业自身的盘算推算气象有一定条目，至少要有巩固的现款流业务来对冲研发失败的风险。比较较之下，国内咫尺的企业多数体量偏小，熟习度不高，举座抗风险才调比较一般，这无疑亦然艰涩冷落的行业举座性窘境。
在著述的临了一节，让咱们聊一聊为何这样迫切的领域，却鲜有入局者。
因为光刻胶如实不是个好生意。
纵不雅全文，咱们可以发现，光刻胶行业集商场举座范围小、行业高度把持、上游居品为高度特化的专用居品，应用面局促、时间门槛极高、研发成本极高、失败风险高、投资回收周期长等特征于孑然，致使还有艰涩冷落的政事风险 —— 在现时的国际环境下，假如一家企业真是获取了较大突破，遭到好意思方制裁的概率不低（可参照 AI 四小龙的遭逢）。
从投资的角度看，这个行业扞拒了简直每一条客不雅规章，可以说是要多劝退有多劝退。而这样的特征，在我国濒临的具有“卡脖子”特征的细分时间上相等多数。举个不太适合的例子，就像是圆珠笔芯的钢珠一样，商场太小，太熟习，其他企业没旨趣费钱入局强行和把持公司张开竞争，能不成成不谈，哪怕成了在交易层面也不合算。
典型的“可以，但没必要”。
这样的行业，当然也很难诱骗社会老本进行投资。毕竟投资需要薪金，需要收益，需要退出机制，而这些“高精尖”领域多数穷乏这些要道特征，换言之即是想得益太难。行业与其豪掷数亿乃至数十亿追求恶运的预期，还不如径直费钱买成品。
这种“造不如买”的模式，在芯片这种高度依赖国际单干的高精尖行业底本是十分通行且多数的，整条产业链散播在全球范围内是平素生态（举例 ASML 的 EUV 光刻机的 90% 零部件来自入口 [6]）。
这种源自全球化进程的制造业模式，即是大名鼎鼎的“国际单干（International Division of labor）”。虽说国际单干在不同历史时期的含义不尽疏通，不外牵强附会的领悟它不会有太多偏差。本文也不是一篇严谨的学术论文，不会在此商议这一观念具体界说与全球执行。
只能惜，这种模式也只能成立在“逆全球化”不那么权臣的国际步地下。如今顽强形态冲突愈演愈烈，在职何行业任何居品都可能招致来惬心洋此岸制裁的今天 —— 贵不贵，有莫得可能糜掷投资还迫切吗？当今一经是最基本的有莫得的问题了。
可这样一个集稠密“反投资”特色于孑然的行业又该如何发展？
当然离不开来自政策的强力接济。只须国度层面给以行业以及社会老本富裕的支柱，才能激勉投资暄和，开头处理最基本的“钱”的问题。
其次，国内的光刻胶行业的高下流协同亟待强化。在光刻胶行业更为熟习的日本，为搪塞高度特化的下流需求、材料规格种种化、时间道路多的产业特征，一众企业形成了高度单干合作的产业集群。以上游材料光刻胶树脂为例，综研化学专注 PCB 光刻胶单体，大阪瓦斯化学等专注面板光刻胶树脂，而丸善石化、住友电木等企业进展光刻胶树脂制造。光引发剂也顺从访佛的发展模式。
然而与日本不同，国内的光刻胶行业比较分散，产业链布局也不无缺，上游的研发、样品导入以及居品考证时常得不到来自下流的支柱，企业各利己战。如何全主见的统合产业力量，竣事共同发展，成立一个强有劲的产业定约，也需要外界的打扰。
而这，也离不建国度力量的引颈、整合与支柱。
临了，固然强调了诸多费劲，说了许多难题，但我国的科研实力正在快速发展，半导体商场在快速扩张，光刻胶行业还有契机，国产替代也还有契机。
我国的时间领域，受起步较晚制约，如确凿许多领域比较滞后 —— 但我国有盾构机这样冲破禁闭，致使“反包围”重建通盘商场情势的前例，也有大型挖泥船这样对外禁运的顶端居品，而这还只是知名度很高的两个例子。
以一句名言作念收尾：出息是光明的，谈路诟谇折的。但愿国内企业加油吧。
（本文不雅点仅供参考，不组成投资建议。）
References：
[1] 文灏股份：光刻胶（Photo resist）常识大全. 2017.08.10 https://www.whchip.com/ news / newsgkj02.html
[2] 信达证券：光刻胶，中枢半导体材料，步入国产替代机遇期. 2021.09.03
[3] 国盛证券：科华杜邦政策合作，加快光刻胶国产替代. 2021.11.08
[4] 申港证券：光刻胶行业深度：破壁引光 小流成海. 2021.09.02
[5] 天风证券：半导体材料王冠上的明珠，迎来国产化机遇. 2021.05.31
[6] 科创板日报：DUV 和 EUV 光刻机的区别在哪？. 中国科学院微电子计划所集成电路先导工艺研发中心. 2021.12.21 icac / learning / learning_2/202112 / t20211221_6324996.html
[7] 郑晨：2021 年全球半导体光刻胶行业商场范围与竞争情势分析 商场稳步增长、产能聚拢度较高.前瞻产业计划所. 2021.09.18 https://www.qianzhan.com/ analyst / detail / 220/210918-8dcf7cfc.html
[8] 林晓晨：必争的 1%. 阿尔法工厂计划院. 2021.06.03 https://mp.weixin.qq.com/ s / djqwvJ_HLq7Eh4PNle-7Vw
[9] 郑晨：【行业深度】瞻念察 2021：全球光刻胶行业竞争情势及商场份额 (附商场聚拢度、企业竞争力评价等). 前瞻产业计划所. 2021.10.26 https://www.qianzhan.com/ analyst / detail / 220/211026-213a722f.html
[10] 郑晨：深度分析！2021 年中国半导体光刻胶商场发展近况分析 晶圆厂扩建驱动增长、光刻胶国产化任重而谈远.前瞻产业计划所. 2021.09.23 https://www.qianzhan.com/ analyst / detail / 220/210923-701c4cc9.html
[11] 东北证券：三种增量、两种替代，电子成长长青 . 2021.12.09
[12] 景瑞电子材料股份有限公司：创业板向不特定对象刊行可治愈公司债券召募阐发书. 2021.08.12 new / disclosure / detail?orgId=9900031917&announcementId=1210726586&announcementTime=2021-08-12
[13] 郑晨：2021 年全球光刻胶行业时间竞争情势 (附区域恳求散播、恳求东谈主名次、专利恳求聚拢度等). 前瞻产业计划所. 2021.10.22 https://www.qianzhan.com/ analyst / detail / 220/211022-836ac5f1.html
[14] 芯智讯：晶圆期凌事故耗损高达 5.5 亿好意思元？台积电下调一季度营收引导. 2019.02.16 https://mp.weixin.qq.com/ s / fiW4E1_WZbgMSo_nu-I-gw
[15] 郑晨：深度分析！一文带你看半导体光刻胶国产化之路“难”在何处？. 前瞻产业计划所. 2021.11.02 https://www.qianzhan.com/ analyst / detail / 220/211101-da859f46.html
本文来自微信公众号：果壳硬科技 （ID：guokr233），作家：陈闷雷，剪辑：李拓
告白声明：文内含有的对外跳转聚合（包括不限于超聚合、二维码、口令等姿首）空姐 偷拍，用于传递更多信息，检朴甄选时辰，驱逐仅供参考，IT之家扫数著述均包含本声明。